Processador de 64 Bits – Intel/Itanium

Finalmente, é removida a parte que restou da camada fotossensível. Note que como temos substâncias diferentes é possível remover uma camada de cada vez, ora o dióxido de silício, ora a própria camada fotossensível. Com isto é possível "desenhar" as estruturas necessárias para formar os transistores. Temos aqui pronta a primeira camada. Cada transistor é formado para várias camadas, dependendo do projeto do processador. Neste exemplo, temos um transistor simples, de apenas quatro camadas, mas os processadores atuais utilizam um numero muito maior de camadas, mais de vinte em alguns casos, dependendo da densidade que o fabricante pretende alcançar.

Começa então a construção da segunda camada do transistor. Inicialmente o waffer passa novamente pelo processo de oxidação inicial, sendo coberto por uma nova camada (desta vez bem mais fina) de dióxido de silício. Note que apesar da nova camada de dióxido, o desenho conseguido anteriormente é mantido.

Em seguida é aplicada sobre a estrutura uma camada de cristal de silício. Sobre esta é aplicada uma nova camada de material fotossensível.

Novamente, o waffer passa pelo processo de litografia, desta vez utilizando uma máscara diferente.

Novamente, a parte da camada fotossensível que foi exposta à luz é removida, deixando expostas partes das camadas de cristal de silício e dióxido de silício, que são removidas em seguida.